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说到等离子体刻蚀，它是是实现超大规模集成电路生产中的微细图形高保真地从光刻模板转移到硅片上的不可替代的工艺。等离子刻蚀气体在进行晶圆刻蚀时，也会腐蚀到刻蚀腔内的其他零部件，这就要求刻蚀腔内的零件具有一定的耐腐蚀性，这些零件大多是铝制品，传统的办法是对铝制零件进行阳极氧化，但阳极氧化的耐腐蚀性已经不能满足设备的要求，导致零件的更换频率过高。.近，国内发展为在铝制零件表面喷涂氧化铝涂层，虽然提高铝制零部件的耐腐蚀性，但零件的更换频率依然很高。

因此，为了提高铝制零部件的使用寿命，降低零件的更换频率，需要腐蚀性更强的氧化钇涂层沉积在零件表面。而氧化钇是其中关键的粉体材料。氧化钇的化学性质非常稳定，具有优异的耐等离子蚀刻性能，氧化钇涂层对刻蚀工艺腔具有良好的保护作用。此外，氧化钇涂层还可以起到阻碳的作用，用于制备熔炼高附加值合金的石墨坩埚。